金属酸化膜半導体。金属酸化物薄膜半導体構造素子とも呼ばれる半導体素子の一つ。
半導体の上にSiO2(酸化珪素)などの絶縁体で薄膜を作り、さらに金属電極を蒸着したもの。SiO2の質としては、高温での熱酸化膜が優秀。"質" というのは耐圧と同義である。半導体製造においては、MOSに限らず、酸化膜技術はもっとも重要とされる技術であり、例えばコンデンサを作るにしても、絶縁体を作る必要がある。これを応用し、コンデンサとスイッチでRAMなどを製造したりする。
MOSの特徴は電極が直流的に絶縁されているため、入力インピーダンスが高く、消費電力を低く抑えることができる点にある。