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富士写真フイルムの開発した、磁性体の塗布技術の一つ。
メタルテープや、Zipなど、高密度記録メタル媒体で使われている。
超薄層のメタル磁性体と、超微粒子の非磁性層の二層を同時重層塗布する技術である。これにより、従来の単層テープでは磁性層が2µm〜5µm程度であったのに対し、ATOMM技術では0.1µm〜0.5µmにまで薄くできるようになった。
磁気媒体の記録密度を高めるには、磁性層を薄くする必要がある。
従来の磁性体は、ベースの上に酸化鉄磁性層が塗布されていたが、この技術ではベースの上にチタンファインの非磁性層を設け、その上に超薄層メタル磁性体を塗布することで、媒体に従来並の「厚み」を持たせつつ、磁性層のみを薄くすることに成功した。
この技術の後継に、「ATOMM-Ⅱ」がある。磁性層は0.2µmで、磁性体の高性能化によりいっそうの高出力、高C/N比、低エラーレート特性を達成した、としている。
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