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相補型金属酸化膜半導体。半導体素子の一つ。
CMOSにはAlゲートプロセスとSiゲートプロセスという、大きく2タイプが存在している。
Alゲートプロセス(8〜10µmルール)製法で作られているのが古いタイプのCMOSで、動作周波数もおよそ5MHz止まりと低速だが、その代わりに動作電圧範囲が広い(3〜15V)という特徴がある。
Siゲートプロセスという製法で作られているのが新しいタイプ(高速タイプ)で、設計ルールも1〜2µm以下になり、最近の主流LSI技術になっている。
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